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這篇主要介紹超高真空下的真空泵(Ultra High Vacuum ): 濺射離子泵 NEG 泵 及 鈦升華泵 Cryopumps

UHV:Ultra-high Vacuum,是指真空度小于1.0*10E-7Pa (1.0*10E-9mbar),主要用于表面分析科技中,如XPS AES TPD MBE 等

上圖是世界上首臺離子泵泵-由瓦里安發明 1957年 

     離子泵的名詞解釋及工作原理:

Sputter  Ion Pump: 濺射離子泵是靠電磁場的作用產生潘寧放電而使氣體分子電離,利用電離產生的離子高速轟擊陰極鈦板引起

鈦原子濺射,連續制造活性吸氣膜使電離了的氣體分子收附于其中達到抽氣效果的真空泵。

 

Titanium Sublimation Pump 鈦升華泵

主要依靠電子轟擊或通電加熱使吸氣材料升溫,達12001500時它將不斷升華并沉積在水冷泵壁內表面,形成新鮮的活性

膜層而不斷地吸收和掩埋氣體分子。對活性氣體主要是形成固化化合物,對惰性氣體主要是掩埋


NEG 泵: Non-Evaporable Getter



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